制备三氧化钨薄膜光电极

光电极（Optoelectrode）是一种将给光刺激与电活动记录功能集成在一起的一种电生理器件，主要配合光遗传学技术应用。最常见的做法是将绝缘金属微丝制备的电极粘接在一段光纤上，作为记录点的电极前端稍微超过光纤端面，以便记录光激活的神经活动。光电极在工作时，由光源发出的光耦合进入光纤，继而由另一端输出，照射在经过光基因（Optogenetic）转染过的细胞上，当光强和波长适当时，细胞膜上的光敏离子通道将被激活，引发细胞产生电活动，继而这种电活动的变化被光电极上的电极所记录。

三氧化钨薄膜光电极的制备，采用阴极电沉积法。电解液中组成为0.025M的钨酸钠，0.03M的双氧水（30%）和0.05M的硝酸（65%），溶剂为水：异丙醇=7:3，电沉积采用三电极体系，Pt电极为对电极，饱和的甘汞电极（SCE）为参比电极，清洗干净的氧化铟锡（ITO）导电玻璃为工作电极。

电沉积制备的过程在温室条件下进行，将含有0.025M的钨酸钠，0.03M的双氧水（30%）和0.05M的硝酸（65%）的电解液进行电沉积，所加电压为-0.6V，沉积时间为1h，得到蓝色无定型的三氧化钨薄膜，在空气中晾干后，将无定型的三氧化钨薄膜置于马弗炉中，此时升温速率约为2℃/min，在450℃的环境下退火处理3h，最后得到三氧化钨薄膜光电极。

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