钨酸钠浓度对Ni-Co-W-P合金镀层性能的影响1/2

随着医疗技术的发展,在临床上已开始应用镍-钛形状记忆合金支架和不锈钢支架,但这类支架却有一些缺点。本文在支架上镀覆一层磁性薄膜,制备可磁化医用金属支架。利用外加磁场将药物送达肿瘤细胞附近,增加了支架的化学药物治疗功能,达到局部靶向治疗的作用,减少药物的副作用。
 
EDS能谱分析制备磁性薄膜方法很多,由于支架是由镍-钛合金丝或不锈钢丝制成的,形状复杂,首选是化学镀法。化学镀具有成本低、操作简单、镀层均匀致密、孔隙率低等优点。本文重点探讨在Ni-Ti形状记忆合金支架表而化学镀Ni-Co-W-P磁性薄膜的配方中钨酸钠浓度对Ni-Co-W-P薄膜形貌及性能的影响。
 
通过化学镀,测试与分析,可得出以下结论:
1. 钨酸钠对镀膜中W的影响
随着钨酸钠质量浓度的增加,镀膜中W质量分数也随着增加。镀膜中金属Ni、Co为主体元素,随着钨酸钠质量浓度的增加,它们的质量分数变化不规则。P质量分数较少。图为钨酸钠质量浓度为0.8g/L时镀膜的EDS能谱分析。
2. 钨酸钠对镀膜光泽度和结合力的影响
使用JS28型显微镜,对在不同钨酸钠质量浓度的镀液中得到的镀膜的光泽度、弯曲90°试验后镀膜的裂纹数和剥落块数进行观察评定。镀膜光泽度和结合力的测试结果表明:改变镀液中钨酸钠质量浓度,所得镀膜的光泽度和结合力明显改变。当钨酸钠质量浓度控制在0.4~1.0 g/L时,镀膜的光泽度与结合力相对较好。
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