CVD 钨管的表面粗糙度

钨管的表面粗糙度受沉积温度的影响显著，其粗糙度随沉积温度的升高而增加。

当沉积温度从600℃升至700℃时，钨管的表面粗糙度明显加大。所以，沉积温度应控制在600℃左右，以获得表面光洁、平整度良好的沉积钨管。

钨管的表面粗糙度主要受膜层生长表面形貌和沉积层组织的影响。若是沉积生长界面（呈现柱状晶）的稳定性较好，则膜层表面的平整度是最好的。随着温度升高到一定程度，被还原的W原子会在沉积生长界面再次形核并继续生长，也就是说，高温导致沉积层显微组织和沉积生长界面发生改变，最终导致钨管的表面粗糙程度增加。


纯钨产品生产商、供应商：中钨在线科技有限公司
产品详情查阅：http://www.tungsten.com.cn
订购电话：0592-5129696 传真：0592-5129797
电子邮件：sales@chinatungsten.com
钨钼文库：http://i.chinatungsten.com
钨新闻、价格手机网站，3G版：http://3g.chinatungsten.com
钼新闻、钼价格：http://news.molybdenum.com.cn
关注微信公众号“中钨在线”，了解每日最新钨钼价格

• < 上页
• 下页 >