钨靶材在薄膜材料的应用

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2015年5月28日星期四 16:31; 作者：Yahong; 点击数：1353

钨靶材也叫钨溅射靶材，其熔点高、弹性好、膨胀系数低、电阻率和热稳定性良好，广泛应用于电子产业（例如LED和LCD）、化工设备（X-射线管、薄膜材料、半导体集成电路、二维显示器、太阳能光伏和表面工程）、医疗设备、熔炼设备、稀土冶炼、航空等领域。
现在一种新方法---PVD（物理气相沉积法）已经被用来溅射薄膜材料，用这种方法做出来的产品特点是具有高密度、表面平滑、无分层、无重皮、无裂纹、无杂质并且具有良好的粘合性等优点。随着高纯金属和合金需求的增长，磁控溅射技术被广泛应用。它可以和两个较旧溅射图谋以及最新的处理设备一起工作，例如，为太阳能或燃料电池和倒装芯片的应用大面积涂层。

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