氧化钨光致变色的检测

氧化钨光致变色的研究已近半个世纪，但因光源选取的不定性和变色表征的单一性使其发展十分缓慢。1973年Dbell利用urbach规则:K=K0exp{-B(E0g-hv)/KT}其中hv是辐射能量，B和凡是材料的特征常量。选取适当的光源，是实现变色的关键。目前的光源主要有压汞灯和高压氙灯两种，采用光源的瓦数各不相同，汞灯有500W，400W、250W、150W等;氙灯有50()W、200W、150W、75W等。瓦数虽然只改变光强度，却能体现出氧化钨的变色性能。尤其从满足不同需要的角度考虑，太阳光照下的变色材料是太阳镜制造商们一直追求的，高波段变色且长期稳定材料则是信息领域所需要，而显示屏方面则要求材料具有快速的着脱色性能。因此，氧化钨光致变色材料的探索还有很长的路要走。

大多数学者是通过UV光谱来检测经光源照射后材料的变色情况，但该方法无法测量短时间内的变色过程，使我们对其变色的机理及过程很难准确把握。直到1993年利用一种高敏感技术TR检测到氧化钨在光照几秒后的变色情况，给出了氧化钨的着脱色可逆过程是同时进行的结论，并提出着色率与光照时产生的电子一空穴对的数量有关的观点。此外，通过EsR、XPS等手段也可以检侧氧化钨的变色过程，但是这两种仪器价格十分昂贵，因此不能作为表征的常用手段。

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