制备钨酸钙薄膜影响因素-反应温度

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2014年9月10日星期三 15:32; 作者：liwj; 点击数：2278

我们知道反应温度对化学反应的影响一般都是从热力学角度产生影响的，使用化学浴沉积方法制备钨酸钙薄膜也不例外。

以下表格是反应温度对钨酸钙薄膜制备的影响：

反应温度（℃）	40	60	80
反应时间（h）	7	7	7
薄膜厚度（nm）	75	175	250

从以上表格数据可以看出，薄膜的厚度随反应温度的变化而变化。反应温度为80℃时，反应进行的快且薄膜的后的增长速度比温度40℃和60℃的生长快的多，这说明提高反应温度可有效提高环境提供给制备过程的能量。随着温度的提高会在衬底上形成更多的晶核，从而使得反应更容易朝着生成钨酸钙薄膜的方向进行，达到薄膜生长的目的。

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