三氧化钨薄膜用途-OLED缓冲层

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2014年9月03日星期三 15:13; 作者：liwj; 点击数：1829

OLED指的是有机电致发光器件，该器件极具潜力，在当前受到了广泛的关注，并得到了实际的应用。研发人在提高OLED器件发光效率，发光光度，功率效率以及延长器件使用寿命等方面进行了大量研究，为了实现高性能OLED器件，降低驱动电压是必然的趋势。该器件常用的阳极材料为ITO，并在IWO和NPB层之间插入三氧化钨薄膜作为缓冲层，从而改变该器件的电学性能。

与无插入三氧化钨薄膜作为缓冲层的器件对比，当工作电压加至8V时，两种器件都开始发光；工作电压超过15V后，有缓冲层器件的发光亮度迅速增加，在工作电压为20V时，无插入缓冲层的器件亮度为8791cd/㎡，而有插入缓冲层的器件亮度为17360 cd/㎡。可见，加入三氧化钨薄膜缓冲层的器件可有效提高了发光亮度。

终上所述，当OLED器件插入三氧化钨薄膜为缓冲层时，随着工作电压的增加，器件的电流密度也跟着逐渐增加，在三氧化钨薄膜的作用下其电流密度增长迅速，从而使得器件的工作效率得到了提高。

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