退火温度影响三氧化钨薄膜氢敏性能

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2014年9月01日星期一 11:39; 作者：liwj; 点击数：1912

在三氧化钨薄膜制备的过程中，受到很多因素的影响，退火温度属于其中一个，以下介绍退火温度对三氧化钨薄膜氢敏性能的影响：

表1-1 退火温度对三氧化钨薄膜氢敏性能的影响：

退火温度（℃）	100	200	300	400	500
对0.2%H2的敏感性	40.3%	35.0%	12.7%	5.3%	1.2%

从以上表格数据可以看出，退火温度越高，薄膜氢敏感性越差。经高温（＞400℃）退火温度超过后，薄膜由无色透明变成蓝色，对氢气几乎没有响应。这可能是因为退火温度越高，三氧化钨薄膜结构越致密，对氢气的吸附越困难。而当退火温度＞400℃后，薄膜物质由非晶态变成结晶态，结构的变化导致薄膜的颜色变深，因此氢敏性能较差。

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