制备氧化钨薄膜-物理气相沉积法

制备氧化钨薄膜-物理气相沉积法，是将原料加热至高温，使之气化，接着在较大温度梯度条件下急冷，在基片上凝聚成氧化钨薄膜的方法，其本质是系统中不发生化学变化的蒸发-凝聚法。

首先把纯度为99.9%的氧化物分末置于石英管中央，把石英管放在水平管式炉中加热，控制石英管中的温度梯度、压强和蒸镀时间可制得高纯的氧化钨，接着将高纯的氧化钨制成直径为10mm高6-10mm的圆柱靶材，随后在空气中加热至700℃保温8h。激光器功率为60KV，电流为20mA，产生波长为1064nm的激光以5HZ的频率每次持续12ns的时间，照射在12rpm的速度旋转靶上9000次。气相沉积舱的压强保持在13.3pa，基片温度为200℃，沉积得到的氧化钨薄膜厚度约为870-980nm。


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