偏钨酸铵制备纳米钨粉

随着高清晰高电流密度的显像管和显示管等器件的发展，对阴极的电子发射性能要求越来越高，其将直接影响器件的特性和使用寿命，作为广泛使用的纳米钨粉末，在纯金属中熔点最高，蒸汽压、膨胀系数最低、电子发射能力强等特性使它最早被用作电子发射材料。偏钨酸铵制备纳米钨粉末通过液—液掺杂—冷冻干燥—两次还原方法制备纳米钨粉末。制备的工艺过程以偏钨酸铵、稀土硝酸盐和水为原料配制成溶液。将溶液经冷冻干燥工艺处理，而得相应的冻干粉，采用热重—差热分析及红外光谱技术对掺有稀土的偏钨酸铵冻干粉还原成超细钨粉的两次还原工艺参数为450℃。利用X—射线演射、透射电子显微分析，扫描电子显微分析，检测所制备的钨粉颗粒形状规则，进行筛选其粒径介于30—100nm之间即为纳米钨粉。


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