纳米三氧化钨在光催化领域的应用

纳米三氧化钨（WO3）是由过渡金属钨元素和非金属氧元素组成的一种n型半导体材料，具有较高的比表面积、化学稳定性、催化活性和氧化性，以及良好的气敏性、光致变色和电致变色等特点，因而广泛应用于光催化领域中。

研究表明，纳米WO3的光催化稳定性良好，对光催化降解水中的污染物有较理想的催化效果。具体来说，纳米WO3在光催化方面主要有以下几种应用：

一、在空气净化领域中的应用

光催化技术是指光催化可以直接利用空气中的氧气做氧化剂，有效地分解室内外的有机污染物，氧化去除大气中的氮氧化物、硫化物以及各类臭气等，且反应条件温和，是一种非常便利的空气净化技术。三氧化钨光催化剂能在温室下利用空气中的水蒸气和氧气去除空气中的污染物。此外，还可用于对工业废气的光催化降解等。

二、在放射性废水处理中的应用

研究表明，以氧化钨为前驱的W18O49/C材料能够实现酸性条件下对Sr(II)和Co(II)的高效富集，主要是归因于该材料表面的氧空位和官能团C-O对金属离子的络合起关键作用，因而在放射性水污染处理领域有广阔的应用前景。

三、在印染废水处理方面的应用

研究表明，当可见光照射到悬浮于水溶液中的半导体粉末时，染料被分解为二氧化碳、水和氮气等，从而降低了化学需氧量（COD）和色度。为了提高印染废水的COD和色度的去除率，可在基质WO3中掺入适量硫化镉（CdS）及钨粉。利用复相光催化剂WO/CdS/W对废水进行了深度处理。

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