近十年来，半导体粉末作为光催化降解水中有机污染物的应用受到了广泛关注。二氧化钛 (TiO2) 抑制了惊人的光催化性能，包括高活性、化学稳定性和低成本。然而，TiO2（带隙为3.2 eV，由波长小于387 nm的光子激发）的光催化活性仍受紫外线波长照射的限制，因此在阳光照射期间不能有效地发生光催化过程。总太阳光谱辐射的 4% 处于紫外线区域。

 

增强光催化性能的三氧化钨-二氧化钛光催化剂以仲钨酸铵为原料合成，其在可见光下的光催化性能得到极大提高。 TiO2 通过 WO3 偶联并根据三种不同的程序进行沉积：将 TiO2-粉末（P25 Degussa，4 g L-1）在剧烈搅拌下悬浮在稀氨溶液中，用化学计量的钨酸（H2WO4）溶解，然后将悬浮液沉积在玻璃基板上，在空气中干燥并在450°C 4 小时。重复相同的沉积过程 3 次，以获得沉积比质量约为 0.2 mg cm-2 (±0.05 mg cm-2) 的厚层。高于该值表明SA的光催化降解率为TiO2-P25。

 

 

在剧烈搅拌下，将 0.05 mol TiCl4 溶解在 100 ml 无水乙醇中，然后用 150 ml 水稀释。在该步骤中，仲钨酸铵粉末根据选定的摩尔比引入。之后，将氨溶液滴入TiCl4/乙醇/水/APT溶液中，钛酸凝胶沉淀。冲洗凝胶并通过离心分离直到无法检测到 Cl− 离子。然后在剧烈搅拌下将H 2 O 2 溶液(30重量％) 逐滴加入凝胶中，直至获得黄色粘稠溶液，其适合旋涂沉积。使用旋涂方法仅沉积一次，用于第二和第三道工序。将所有催化剂沉积物干燥并在空气中在450°C下燃烧4小时，并使用相同范围（400-500°C）的退火温度制备偶联的WO3/TiO2催化剂。

 

 

综上所述，增强光催化性能的三氧化钨-二氧化钛光催化剂以仲钨酸铵为原料合成，其在可见光下的光催化性能得到极大提高。在4wt.% WO3下，带隙能降低到2.3 eV，可见光下相应的光催化活性显着增强。在紫外线照射下，还观察到更高的光催化活性和对引入 WO3 的更好响应。对于由程序2制备的偶联催化剂，在可见光下也观察到一些WO3 负载的光催化抑制，并且在UV光下观察到0.5wt％的WO3 有很大的增强。