光催化降解用钨青铜
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2021年1月07日 星期四 20:00
- 作者:Xiaoting
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作为过渡金属钨非整数比化合物的代表材料,钨青铜粉末和其他的钨化合物一样都是一种半导体材料,因有极为出色的电学性能和光学性能等特点,而广泛应用于光催化降解中。
光催化降解是指利用辐射、光催化剂在反应体系中产生的活性极强的自由基,再通过自由基与有机污染物之间的加合、取代、电子转移等过程将污染物全部降解为无机物的过程。在这个过程中,光催化剂的活性是非常重要的,它将直接关系到污染物的降解速率。
目前,光催化剂除了用二氧化钛(TiO2)外,还有研究者表明可以用钨青铜。如今,为了提高钨青铜的光催化特性,学者常向其中添加金属钽,制成掺钽钨青铜(TaxWO3)纳米线。
掺钽钨青铜的制备:以五氯化钽(TaCl5)和钨酸钠(Na2WO4)为原料,采用水热法在170℃制备。
XRD结果表明:TaxWO3纳米材料为六方相结构氧化钨,当TaxWO3中Ta/W摩尔比小于0.04时,晶胞参数随着掺杂量的增大而逐渐增大,当掺杂量达到大于0.04后保持基本不变。UV-Vis光谱表明:随着钽掺杂量的增大,紫外吸收峰发生红移,即能隙逐渐减小。Raman光谱显示:随钽掺杂量的增大,Raman峰位逐渐向低波数方向移动,同时振动峰逐渐宽化,进一步证明了钽掺杂对氧化钨结构的影响。光催化降解罗丹明B的实验显示,制备的TaXWO3具有较高的光催化活性。
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