SiO2纳米晶-黄色氧化钨复合薄膜

SiO2纳米晶-黄色氧化钨复合薄膜以无定形氧化钨作为基体,SiO2纳米晶均匀分布在无定形氧化钨中。有专家通过下述步骤制得在633nm处的光谱调制幅度为46%,着色时间为8s,褪色时间为4.3s的复合薄膜。

SiO2纳米晶-黄色氧化钨复合薄膜图片

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ITO基板图片

SiO2纳米晶-黄色氧化钨复合薄膜的制备

步骤一:将0.3g SiO2纳米晶粉末超声分散溶于6mL二甲基甲酰胺,形成TiO2纳米晶的二甲基甲酰胺溶液。

步骤二:将1.5g偏钨酸铵加入步骤一所得SiO2纳米晶的二甲基甲酰胺溶液中,超声处理得到复合溶液。

步骤三:步骤二所得复合溶液中依次加入2mL乙醇,超声处理。

步骤四:利用旋涂仪将步骤三所得溶液旋涂在清洗后的ITO基板上。其中,旋涂转速为500r/min,匀胶时间5s;接着转速1000r/min,匀胶时间20s。

步骤五:将步骤四制得的湿膜先在空气气氛中热处理,热处理温度为350℃,保温时间为60min,制得SiO2纳米晶-黄色氧化钨复合薄膜。

 

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