WO3-ZnO复合薄膜的光催化性能

WO3是一种重要的无毒的且禁带宽度窄（2.4-2.8eV）的半导体材料，可作为催化剂应用于光催化反应中对污水中的有机物进行催化降解，因而WO3-ZnO复合薄膜的制备已成为当前的一大研究热点，而且，其光催化性能备受关注。

更多内容请访问：
http://tungsten-oxide.com/chinese/index.html

有专家采用溶胶-凝胶法在铝箔上制备WO3-ZnO复合薄膜，并用活性炭对其改性，以甲基橙水溶液模拟有机污染物，研究了WO3-ZnO薄膜的光催化降解性能。结果表明：白炽灯照射2h、WO3质量分数为2.5%时，WO3-ZnO-铝箔对甲基橙的降解率达到78.54%；紫外光照射下降解率达到99.89%。当活性炭掺杂量为10g/L时，制得的WO3-ZnO复合薄膜均匀一致且光催化性能良好，可见光照射下甲基橙降解率达到85.71%。

• < 上页
• 下页 >