焦绿石型氧化钨在层状复核材料应用
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2018年6月29日 星期五 17:19
- 作者:liangrong
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焦绿石型氧化钨由于其所特有的物理化学性质,在材料领域具备很广泛的应用前景,近年来焦绿石型氧化钨在层状复核材料领域的应用也相当广泛。
有实验表明将焦绿石型氧化钨置于烷基胺与正庚烷的混合液中,在一定的实验条件下连续反应七天,取固体物质进行洗涤、烘干处理,获得多种层状复合材料。烷基胺在复合材料中层与层之间通过静电引力相互作用,而且以全反式构象双层排布,层间距随着烷基胺中的碳原子增加而增长。若以HTT作为中间体时,利用阳离子交换机制成功的将苯胺阳离子嵌入到焦绿石型氧化钨层间,会使得材料的热稳定性得到提升。
焦绿石型氧化钨和正辛烷在非极性庚烷介质中合成新型插层化合物,经过除去有机胺、煅烧等工序,会得到一个新型功能材料,材料对酒精表现出极高的敏感性。H2W2O7·xH2O与辛烷混合液反应,释放出来的层间水与辛胺发生水解反应得到高碱性微区水溶液,高碱性溶液将W2O7双层溶解为WO4单层,得到的H2-b(RNH3)WO4在准反胶束介质中能自发组装为高度有序的无机-有机混杂纳米带,即C8NH2-HWO。然后将纳米带均匀分散于硝酸水溶液中,经磁力搅拌、固液分离、洗涤、热处理后得到WO3纳米片。通过形貌、结构和形成机理以及相关的影响因素明确了利用H2W2O7·xH2O制备插层复核材料和纳米三氧化钨的实验条件,该方法的优点适合大规模纳米氧化钨的生产,且复核工业化的低成本要求。
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