氧化钨超薄纳米片形貌

通过超临界二氧化碳法制得的氧化钨超薄纳米片，在剥离开始阶段，直径为5-10 nm 的较小的纳米片随机分散且没有明显的取向。纳米片晶格间距为 0.37 nm，对应于氧化钨的(120)面。

随着反应的进行，更多的纳米片被剥离开，小的纳米片取向连接以降低其表面能，形成较大的纳米片。反应到最终阶段，纳米片进一步二维取向连接，形成 40-50 nm 的二维纳米片。这样的生长方式被称为取向生长。而选区衍射说明了合成的氧化钨纳米片的层状结构。

从图中可以看出，剥离得到的纳米片具有较少的片层，表现出超薄特性。根据氧化钨纳米片和本体钨酸的 XRD 衍射花样，可以推断出氧化钨纳米片和本体钨酸的 XRD各峰均对应于正交相氧化钨。与本体钨酸相比，氧化钨纳米片各峰的位置无明显变化，说明氧化钨保持了原有结构。另外 氧化钨纳米片无新峰出现，说明表面活性剂已完全除去。这一点同样被氧化钨纳米片的FTIR 图谱证实。剥离得到的氧化钨样品只出现氧化钨的红外特征峰，无表面活性剂的特征峰出现。这样的结果表明离心转速为 20000 rpm时，可有效分离表面活性剂和氧化钨纳米片。

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