三氧化钨电沉积法

三氧化钨电沉积法是指三氧化钨从其化合物水溶液、非水溶液或熔盐中电化学沉积的过程。是金属电解冶炼、电解精炼、电镀、电铸过程的基础。这些过程在一定的电解质和操作条件下进行，金属电沉积的难易程度以及沉积物的形态与沉积金属的性质有关，也依赖于电解质的组成、pH值、温度、电流密度等因素。

利用电沉积法所制备的三氧化钨，解决了水热法对三氧化钨基底的限制。将通过简单绿色的溶液法制备出的水合三氧化钨纳米片沉积在导电基底上，便可形成三维类垂直结构水合三氧化钨纳米片。这种三氧化钨的光调制范围达到较大、着色效率较高、着色时间和响应时间较短，着色效率较高。通过这项工作不仅得到一种高性能、低成本的电致变色器件，同时也为构筑多孔结构薄膜提供了新方法，且这种类垂直结构的制备方法在未来可以应用于可拉伸器件中，以防止薄膜在拉伸过程中开裂。

三氧化钨电沉积法摆脱了水热生长方法中，三氧化钨对晶种层的依赖，消除了晶种辅助水热法制备的薄膜致密晶种层对电子的阻挡，提高了电子传输速度以及电子传输效率。因此，相比于晶种辅助法制备的薄膜，三氧化钨电沉积法有着更为优异的条件。

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