三氧化钨薄膜的形成

三氧化钨薄膜的形成与生长是一个相对复杂的问题。首先在三氧化钨薄膜的表层，外来的原子要到达三氧化钨基底表面，需要进一步的经过吸附、原子徒动、原子结合、形成临界核。最终才能生长成我们所需要的三氧化钨薄膜。

三氧化钨薄膜的形成，归纳起来基本上分为吸附阶段、成核以及三氧化钨薄膜的初期生长阶段、三氧化钨薄膜的形成和生长阶段。

三氧化钨薄膜形成过程中的吸附阶段，就是在通常的蒸发气压下，三氧化钨原子从蒸发源处运动到基底的过程中，不发生碰撞现象，在运动过程中也没有能量损耗。当入射原子接近和到达基底时，也就进入了基底表面的力场。三氧化钨原子结合成原子团以后，如果尺寸太小，那么该原子团就不太稳定，就可能吸附新蒸发的原子，也有可能解离并被其他的大原子俘获。当原子团中的原子数量足够多的情况下，就会形成临界核，之后原子团会继续长大，进一步的开始形成三氧化钨薄膜。直到百分之九十的基底都被外来的原子覆盖，就已经形成了三氧化钨连续薄膜。