三氧化钨薄膜的形成
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2018年2月11日 星期日 16:50
- 作者:Lyn
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三氧化钨薄膜的形成与生长是一个相对复杂的问题。首先在三氧化钨薄膜的表层,外来的原子要到达三氧化钨基底表面,需要进一步的经过吸附、原子徒动、原子结合、形成临界核。最终才能生长成我们所需要的三氧化钨薄膜。
三氧化钨薄膜的形成,归纳起来基本上分为吸附阶段、成核以及三氧化钨薄膜的初期生长阶段、三氧化钨薄膜的形成和生长阶段。
三氧化钨薄膜形成过程中的吸附阶段,就是在通常的蒸发气压下,三氧化钨原子从蒸发源处运动到基底的过程中,不发生碰撞现象,在运动过程中也没有能量损耗。当入射原子接近和到达基底时,也就进入了基底表面的力场。三氧化钨原子结合成原子团以后,如果尺寸太小,那么该原子团就不太稳定,就可能吸附新蒸发的原子,也有可能解离并被其他的大原子俘获。当原子团中的原子数量足够多的情况下,就会形成临界核,之后原子团会继续长大,进一步的开始形成三氧化钨薄膜。直到百分之九十的基底都被外来的原子覆盖,就已经形成了三氧化钨连续薄膜。
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