三氧化钨二维材料的性能优势
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2018年2月08日 星期四 15:14
- 作者:Lyn
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三氧化钨作为重要的过渡金属氧化物已被广泛用于很多研究领域,如光致变色、电致变色、锂离子电池及气敏材料等。三氧化钨由于具有不同的晶体结构,其禁带宽度大约为 2.6 e V。三氧化钨在理论上仅能够利用12%的太阳光,在光催化领域同样受到了广泛的关注。
目前对三氧化钨光催化性能的研究,主要以单斜三氧化钨为主。而对其它晶体结构的三氧化钨研究较少。由于晶体结构是影响光催化剂性能的根本原因,因此有必要对不同晶体结构的三氧化钨进行研究。此外三氧化钨的微观形貌也同样能够影响其光催化活性,这主要表现在比表面积等因素上。
三氧化钨二维材料由于其独特的结构特性已成为了研究热点。三氧化钨二维材料具有大的比表面积,能够提供更多的吸附位点及反应活性位点。它的结构各向异性,将能够使光生载流子沿着不同的方向具有不同的迁移速率。因此在三氧化钨二维材料的厚度方向上,光生载流子的迁移速率将会远大于其他方向。这是因为在此方向上光生载流子受到的限制作用最小。同时与其它形貌同类的材料相比,三氧化钨二维材料具有更优异的光催化活性。此外分级结构的构筑也被认为是较为有效的提高样品光催化性能的方法。由于分级结构具有较大的比表面积和不同的表面特性,而独特的表面性质还会影响三氧化钨二维材料对光的吸收特性。
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