氧化钨物理特征
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2018年2月06日 星期二 11:20
- 作者:Lyn
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近些年来,氧化钨在硬质合金工业中通常作为“氢还原法”生产金属钨粉与掺杂工艺的原材料。而不同氧化钨的孔结构对制取钨粉成品的均匀性、纯度与疏松性将会造成不同影响,因此通过相关物理方法确定氧化钨的物理特征,将能够在一定程度上提高氧化钨制取钨粉的产量与效率。
常用的氧化钨物理特征分析方法包括:采用BET模型测得比表面积,采用de Boer法测定微孔孔径,利用MP法测定微孔孔径分布,使用BJH法进行中孔分析。氧化钨的表面粗糙度与其比表面积或孔体积间存在着定性或定量的关系。
相关研究者利用吸附等温线法研究了四种不同氧化钨的比表面积、中孔体积与微孔体积,其结论为紫色氧化钨(VTO)粉末具有最大的中孔体积、最小的微孔体积、最窄的孔径分布与最大的平均孔径,有利于氢还原制取钨粉,而不利于掺杂工艺;氢钨青铜(HTB)粉末具有最大的微孔体积,最宽的孔径分布与最小的平均孔径,对于掺杂工艺来说是有利的;铵钨青铜(ATB)与蓝色氧化钨(TBO)的上述参数介于VTO与HTB之间,因此对于掺杂工艺来说ATB与TBO都没有HTB所发挥的作用理想。
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