光催化降解用钨青铜

作为过渡金属钨非整数比化合物的代表材料，钨青铜粉末和其他的钨化合物一样都是一种半导体材料，因有极为出色的电学性能和光学性能等特点，而广泛应用于光催化降解中。

光催化降解是指利用辐射、光催化剂在反应体系中产生的活性极强的自由基，再通过自由基与有机污染物之间的加合、取代、电子转移等过程将污染物全部降解为无机物的过程。在这个过程中，光催化剂的活性是非常重要的，它将直接关系到污染物的降解速率。

目前，光催化剂除了用二氧化钛（TiO2）外，还有研究者表明可以用钨青铜。如今，为了提高钨青铜的光催化特性，学者常向其中添加金属钽，制成掺钽钨青铜（TaxWO3）纳米线。

掺钽钨青铜的制备：以五氯化钽（TaCl5）和钨酸钠（Na2WO4）为原料，采用水热法在170℃制备。

XRD结果表明：TaxWO3纳米材料为六方相结构氧化钨，当TaxWO3中Ta/W摩尔比小于0.04时，晶胞参数随着掺杂量的增大而逐渐增大，当掺杂量达到大于0.04后保持基本不变。UV-Vis光谱表明：随着钽掺杂量的增大，紫外吸收峰发生红移，即能隙逐渐减小。Raman光谱显示：随钽掺杂量的增大，Raman峰位逐渐向低波数方向移动，同时振动峰逐渐宽化，进一步证明了钽掺杂对氧化钨结构的影响。光催化降解罗丹明B的实验显示，制备的TaXWO3具有较高的光催化活性。

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