紫色氧化钨循环还原氧化制备微米钨粉
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月15日 星期一 13:28
- 作者:xiaoshan
- 点击数:1563
钨粉的细致度和均匀性是影响硬质合金的关键,而亚微米或微米的钨粉有利于制备硬质合金。根据相关学术报道可知,相对单一的氧化钨可以制取亚微米或微米的钨粉。而利用紫色氧化钨(紫钨)在循环还原氧化方法制备微米钨粉的方法具有工艺简单,工艺参数易于控制和设备简单等优点。制备方法如下:
1.紫钨在氢气中进行第一次还原,一带温度为640℃,二代温度760℃,三代温度860℃,当温度达到860℃时保温20min。
2.将得到的钨粉在空气中缓慢升温到500℃进行第一次氧化,然后保温10min。
3.再将钨粉通过第一和第二个步骤进行连续循环进行还原氧化。
4.采用分析纯酒精对以上各步骤实验结果进行分散纸样,然后用BT-9600激光粒度分析仪和JXA-840A电子探针扫描仪对各式样进行粒度和形貌分析。
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钨管的性能
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月12日 星期五 18:50
- 作者:Yahong
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钨管是钨深加工的产品之一,其也具有钨的优良性能。
钨管拥有以下性能:
高熔点;
高沸点;
耐高温性能好;
良好的耐腐蚀性;
生产工艺:粉末冶金;
高纯度:其纯度可大于99.95%;
外观:呈现银灰色的金属光泽;
供应状态:烧结或加工的状态;
在高温下,优良的低膨胀特性;
高密度:如果它是由烧结制成,其密度可以达到18.2g/cm3;如果是通过完全锻造,其密度可以到19.2g/cm3.但是,如果其尺寸过大,密度仅可达到18.8g/cm3左右。
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化学气相沉积法制备钨管性能研究概述
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月12日 星期五 18:38
- 作者:Yahong
- 点击数:1539
钨管的制备可以采用CVD(化学气相沉积法),以WF6、H2为原料气体。
CVD技术是制备纯钨制品的重要方法之一。在1970年末,国外就已经有采用此技术制备高纯度及高密度钨制品的相关报告。近年来,中国也渐渐在开展CVD技术制备钨组织、性能、结构及其涂层工艺等方面的研究。
不同的沉积温度(700℃,600℃,500℃)所制得的钨管的密度、纯度、残余应力、显微硬度和钨管强度各不相同。
用CVD制备的钨管的性能:
高纯度:>99.7%;
高密度:>19g/cm3;
抗拉强度范围:300-500Pa,与常规方法制备钨棒退火态抗拉强度相当;
沿钨管半径及圆周方向存在较大的残余应力;
采用CVD制得的钨管具有纯度高和致密度高的特点;
随着钨管半径(4-21mm)和沉积温度的不同,显微硬度的值的范围在500-800HV之间。
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化学气相沉积法制备钨管
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月12日 星期五 18:42
- 作者:Yahong
- 点击数:1475
以高纯WF6和高纯H2为原料,采用CVD(化学气相沉积法)制备钨管,其沉积温度控制在500-700℃。
钨管的制备过程为:
WF6和H2发生化学反应,WF6还原为钨原子,在沉积仿形基体上获得钨沉积层。
该过程结束后,通过在真空炉中将基体熔化或是通过化学腐蚀获得沉积钨管,其形状取决于沉积基体的形状,尺寸精度可控。
然后,用密度测量仪测量产品的密度;
用显微硬度计测试其显微硬度;
用万能材料试验机测量产品的抗拉强度;
用金相显微镜进行金相观察,并用数码相机采集金相图片;
用荧光X射线谱和能谱仪对沉积成分和氟化物残留物进行分析;
用衍射仪分别测量产品表面的切向、轴向和产品端面的径向的残余应力。
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铆接钨管
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- 发布于 2015年6月12日 星期五 18:25
- 作者:Yahong
- 点击数:1303
铆接钨管是指以钨片为原材料,采用铆接的方式将其旋绕成钨管。
铆接就是在两个工件的需要连接的部位打洞,然后将铆钉放进去,用铆钉枪将铆钉铆死,从而将两个工件连接在一起。
钨管采用铆接方式的主要原因是其厚度太薄,用烧结后磨光的钨管达不到需求的厚度,而采用铆接的方法可实现。一般铆接钨管的厚度在0.2~0.5mm之间,高度可达到850mm。蓝宝石长晶炉用的铆接钨管会同时采用多个外径不同的钨管,再将其固定成环环缩减状。其作用主要是为了保温、隔热。铆接钨管的表面为抛光,呈现光滑的金属银灰色光泽。
铆接钨管纯度:
纯度不小于99.95%。
铆接钨管表面:
表面呈银灰色金属光泽。
铆接钨管用途:
主要应用于蓝宝石单晶炉、高温炉内的热电偶保护管、高温烧结炉内的支撑件等方面。
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