高纯钨钛靶材的新制备方法
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2021年12月01日 星期三 13:39
- 作者:Xiaoting
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作为集成电路中重要的扩散阻挡层,钨钛(W-Ti)薄膜虽然有较高的密度和良好的化学稳定性,但因为钨钛靶材存有污染物粒子,所以薄膜欠佳。为了降低靶材的污染物,研究者提出了一种高纯钨钛靶材的新制备方法,具体步骤如下:
作为集成电路中重要的扩散阻挡层,钨钛(W-Ti)薄膜虽然有较高的密度和良好的化学稳定性,但因为钨钛靶材存有污染物粒子,所以薄膜欠佳。为了降低靶材的污染物,研究者提出了一种高纯钨钛靶材的新制备方法,具体步骤如下:
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