掺杂WO3薄膜

掺杂WO3薄膜可以采用电子束蒸镀法制备得到。其中,电子束蒸镀法是蒸发镀膜法中的一种,而后者又属于物理气相沉积法中的一种。有专家以WO3和CNT的混合粉末为原料,采用电子束蒸镀法在Al2O3基板上制得NWCNT掺杂WO3薄膜。

掺杂WO3薄膜图片

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专家表示,物理气相沉积是实验室中较为广泛采用的制膜方法,与其他方法相比,其合成薄膜的速度较快,薄膜纯度较高,表面均匀性较好,且可将一些高熔点反应物用于掺杂WO3薄膜的制备,但反应仪器成本较高,因而不适用于规模化制备薄膜材料。专家还讲到,电子束蒸镀的原理是利用高能电子束对靶材表面进行轰击,使材料表面产生极高的温度,从而使材料由固态直接升华到气态,并沉积到工件表面形成薄膜。

 

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