Ta掺杂氧化钨电致变色薄膜

Ta掺杂氧化钨电致变色薄膜图片

Ta掺杂氧化钨电致变色薄膜中,Ta掺杂量的多少会影响三氧化钨薄膜光谱调制能力的好坏。氧化钨薄膜的光学调制幅度ΔT为着色态与退色态透射率的差值。

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钽掺杂WO3薄膜

钽掺杂WO3薄膜图片

相对于三氧化钨薄膜,钽掺杂WO3薄膜的着色效率有所提高,即薄膜的电致变色性能改善了,其中,钽掺杂量的临界值为15%,过度的掺杂则不利于薄膜呈现出高的电致变色效率。

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Ta掺杂氧化钨薄膜

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Ta掺杂氧化钨薄膜的电致变色性能是怎样的情况?有专家通过下列实验获知。

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Ta掺杂WO3薄膜

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薄膜的循环寿命是电致变色材料应用的一个重要参数,也是评价其性能好坏的重要标准之一。因而,有专家采用循环伏安法对Ta掺杂WO3薄膜的循环寿命进行测试,即在薄膜样品上反复施加-0.6~+0.6V的电压,使薄膜循环着退色多次,观察样品在50次循环后的循环伏安曲线的稳定性。未掺杂和掺杂15%钽的氧化钨薄膜的循环伏安曲线如下图所示。

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电致变色薄膜用钽掺杂纳米三氧化钨

电致变色薄膜用钽掺杂纳米三氧化钨图片

专家表示,室温下沉积获得的纯三氧化钨薄膜为非晶态电致变色薄膜,薄膜表面光滑,质地均匀且多孔。而钽掺杂纳米三氧化钨电致变色薄膜也是非晶结构。当钽掺杂量在一定范围内时,薄膜表面光滑均匀。随着钽掺杂量的增加,开始有较大的颗粒镶嵌在薄膜内部,这些颗粒较为致密,破坏了薄膜的多孔性和均匀性。当掺杂量达到35%时,在薄膜表面甚至出现了微米级别的颗粒。

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