钨针

钨针是一种结构细长由纯钨或者钨合金制得的钨制品,由辉光放电条件下羰基钨蒸气制造而成。钨针具有耐高温,导电性好等优点,针增长现象在钨衬底的室内温度1500 °K范围内,但针头在高于或低于1100 °K时产生的形态和结晶状态不同。在较低温度下,钨颗粒结块产品的形状像树枝,在较高温度下的像胡须。
 
钨针可作为氩弧焊技术中的电极材料,也可用做仪器探针使用,主要应用于雕刻金属表面,胶棉中颗粒的切割和单一颗粒的操作。由于这些针非常易脆,故很经常弯曲或折断。在完成粒子切割时需要用手操作。
 
根据形状不同,可分为圆棒状钨针和带尖头钨针。根据生产工艺不同,可分为金属注塑工艺,拉丝成型工艺。
 
 
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钨靶材

钨靶材主要应用于航天、稀土冶炼、电光源、化工设备、医疗器械、冶金机械、熔炼设备、石油、等领域。喷涂、烧结后的钨靶,具有99%的密度甚至更高、平均透明纹理的直径为100um甚至更小、含氧20ppm或更少,偏转角力为500Mpa左右的特
性;提高未加工金属粉末的生产,提高烧结的能力,可以使钨靶的成本稳定在一个低价位。烧结后的钨靶密度高,具有传统的压制烧结方法所无法达到的高水准的透明框架,并且明显改善了偏转角力,以致颗粒物显著的减少。
 
 

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硬质合金刀具涂层制备方法

硬质合金刀具涂层制备方法有很多,包括气相沉积、热喷涂、\化学热处理等。气相沉积制备涂层的质量好,己经逐步成为硬质合金刀具涂层制备方法的主导。气相沉积技术分为化学气相沉积和物理气相沉积。
1.化学气相沉积(CVD)。化学气相沉积属于原子沉积类,是利用气态的先驱反应物通过原子分子间化学反应的途径生成固态涂层的技术。基于此特点,CVD过程大多在相对较高的压力和较高的沉积温度环境下进行。因为较高的压力有助于提高涂层的沉积速率 较高的沉积温度可保证化学反应的顺利进行。
2.物理气相沉积(PVD)。物理气相沉积是利用某种物理过程(如物质的蒸发或受到粒子轰击时物质表面原子的溅射等现象),实现物质原子从源物质到沉积涂层的可控转移过程,是在分子原子的尺度上沉积涂层。


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硬质合金刀具物理气相沉积制备方法的优点

硬质合金刀具涂层的制备方法有许多,气相沉积是硬质合金刀具涂层的主要制备方法,气相沉积包括物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。与 CVD 涂层技术相比,PVD涂层技术有以下几个优点:
1.PVD涂层技术的沉积温度低 ,可以在200~600℃及以下沉积 TiN 等超硬涂层,因此不会降低基体材料原有抗弯强度,涂层和基体间也不会产生 η 相,因此不需采用特殊的硬质合金材料,扩大了应用范围;
2.涂层具有微细结构,在涂层内部产生压应力,抗裂纹扩展能力强;
3.涂层表面光滑,比 CVD 涂层更能有效地阻止前刀面的横裂纹扩展,同时还可以降低摩擦系数;
4.可以使用刃口锋利的刀具作基体,这一点对于高速切削非常重要。


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整体硬质合金刀具磨削裂纹的防止

整体硬质合金刀具产生磨削裂纹的主要原因为磨削工艺和参数不恰当导致磨削接触区的局部瞬时温度过高引起近表面层过高的拉应力值超过材料的破断强度造成。
检测整体硬质合金刀具的磨削裂纹等表面缺陷可以采用高灵敏度的亲水性后乳化荧光渗透探伤法,该方法广泛用于整体硬质合金刀具的质量保障技术领域。

通过改进和优化整体硬质合金刀具磨削工艺和磨削参数可有效防止磨削裂纹及磨削烧伤的产生。


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2024年1月份赣州钨协预测均价与下半月各大型钨企长单报价。

 

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龙年首周钨价开门红。