在中频感应炉上进行烧结，烧结温度控制在：2200℃-2250℃左右，并保温3h-5h。在中温阶段再次进行保温.，温度控制住1600℃-1700℃，保温时长控制在1.5h左右，以使得致密化程度更好。而且，升温速度不可以太快，否则坩埚容易变形，升温速度宜控制在80℃-100℃左右。另外，烧结时的真空度应大于0.67Pa。

此外，通过在坩埚底部垫上相同材质的钨板和合理的装炉方式能够避免钨坩埚在烧结时底部会开裂的情况，使得钨坩埚的质量有保证。通过此烧结工艺，钨坩埚的密度可达到17.3g/cm³及以上。


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液相法制备纳米微粒的共同特点是以均相的溶液为出发点，通过各种途径使溶质与溶剂分离，从而溶质形成一定形状和大小的颗粒，得到所需粉末的前躯体，热解后得到纳米微粒。液相法包括沉淀法、微乳液法、水解法、溶胶-凝胶法、水热法等。沉淀法有共沉淀法和化学沉淀法。

化学沉淀法是在金属盐溶液中加入适当的沉淀剂来得到陶瓷前躯体沉淀物，再经过煅烧形成纳米陶瓷粉体。例如以(NH4)10W12O41·5H2O为原料，制得H2WO4，在经脱水、煅烧制得WO3陶瓷粉体。在不同温度下（300~600℃）处理，得到的粒径范围是16~57nm。或者以APT为原料，加入制得的H2WO4，再经煅烧制得WO3陶瓷粉体。在300~600℃条件下热处理，也能得到粉体粒径16~57nm。运用化学沉积法制得的纳米粒径比单纯用APT热解得到的粉体粒径更均匀。

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钨坩埚可分为，冲压型钨坩埚，烧结型钨坩埚，焊接型钨坩埚，旋压型钨坩埚和钨棒车加工成型钨坩埚等。

压制钨坩埚需要选择合适的钨粉粒度，从而避免在压制过程中，钨坩埚会全部开裂。通常情况下，钨粉的粒度若是过细，比表面大的话，粉末间的接触面积也大，压制时粉末间的位移和形变量大，弹性系数会增加，若是在加上池压时应力的松弛，则容易造成钨坩埚的开裂。若是选用较粗的钨粉，钨粉的粒度过粗，比表面小的话，钨粉间的接触面积少，在经过压制后，压坯的密度低，则钨坩埚也容易开裂。所以，钨粉的粒度的选用范围应在：2.5μm3.0μm左右。同时，应特别注意含氧量的控制，应在0.1％以下。


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三氧化钨在现代工业中被广泛应用，除了在气敏材料、电致变色等领域发展外在催化方面的应用也十分广泛。且三氧化钨既不溶于水也不溶于酸，但在过量的H2O2的溶液中，由于[o2]2-强的电负性和WO3发生配位作用生成氧化钨酸（H2[W2O3(O2)4(H2O)2]）^{11-12}。在（H2[W2O3(O2)4(H2O)2]）^{11-12}的作用下将环乙醇转化为环已酮。该反应体系中的H2[W2O3(O2)4(H2O)2]为活性组分，带来活性氧的同时又为反应体系带来酸性，适宜的酸性对H2O2的氧化反应有较强的催化作用。当三氧化钨用量为0.50mmol时，溶液的酸性较低，活性中心数目较少，环已酮的产率很低。随着三氧化钨的用量增加，溶液的酸性增强，活性中心数目也相应增加，产品产率也相应增高。当三氧化钨用量增至1mmol时，已能够提供反应所需的活性中心数，环已酮的产率达到73.5%，且随着三氧化钨用量的增加，环已酮的产率并无明显提高。说明无限量的增加催化剂用量，并不能提高环已酮的产率。

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