以下为稀土掺杂钨酸钙Zn_0.1Ca_0.9WO₄：Ho³⁺/Yb³⁺多晶的上转换稳态光谱。

在980nm二极管激光器的激发下，对Zn_0.1Ca_0.9WO₄：Ho³⁺/Yb³⁺样品进行上转换稳态光谱测试，测试范围450~700nm，测试结果如图 7所示。 

Zn_0.1Ca_0.9WO₄：Ho³⁺/Yb³⁺多晶在475nm处有明显的蓝光发射峰，这个波长的蓝光发射对应Tm³⁺离子的¹G₄→³H₆能级跃迁。在650nm处出现了微弱的红光发射峰，这个波长的红光发射峰对应于Tm³⁺离子的¹G₄→³F₄能级跃迁。

由于Tm³⁺离子同样不能直接吸收980nm激发波长传递的能量，需要通过Yb³⁺离子的敏化作用实现能级跃迁，因此固定Tm³⁺离子浓度为2mol%时，Yb³⁺离子浓度的改变直接影响上转换发光强度。由图中可以看出，当Yb³⁺离子浓度小于6mol%时，随着Yb³⁺离子浓度不断提高，上转换蓝光和红光发光强度逐渐增强。当Yb³⁺离子浓度大于6mol%时，上转换蓝光发光强度反而减弱，红光发光强度基本不变。说明固定Tm³⁺离子浓度为2mol%时，Yb³⁺离子敏化Tm³⁺离子发光的阈值浓度为6mol%。上转换蓝光和红光发光强度出现这种变化趋势的原因如下：当Yb³⁺离子浓度较低时，随着Yb³⁺离子浓度的增大，更多的Yb³⁺离子不断地将能量传递给Tm³⁺离子，能量传递效率增加，因此上转换蓝光和红光发光强度均增强。当Yb³⁺离子浓度较高时，Yb³⁺离子间距离较小，两个相邻的Yb³⁺离子组成一对，发生合作敏化作用，能量传递效率降低，因此上转换蓝光和红光发光强度减弱。 

固定Tm³⁺离子浓度为2mol%时，Yb³⁺离子浓度的改变同时影响蓝光和红光的比例。分别对蓝光和红光的发射峰面积进行积分，得到蓝光和红光比例如图 8所示。 

Zn_0.1Ca_0.9WO₄：Ho³⁺/Yb³⁺多晶上转换蓝光和红光发光强度比例很大，红光强度远远小于蓝光。当Yb³⁺离子浓度低于5mol%时，随着Yb³⁺离子浓度的增加，蓝红光强度比随之增加。当Yb³⁺离子浓度为5mol%时，蓝红光比值最大。当Ho³⁺离子浓度大于5mol%时，蓝红光比例显著下降。这说明Yb³⁺离子浓度不但对上转换发光强度有影响，还对蓝红光的比例影响显著。

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钨触点的主要成分是钨（W），即钨触点表面的膜的电极电位分析可从钨下手。
标准电极电位是平衡电极电位的一种，每一种物质都拥有这一特性。
标准电极电位指的是将某种物质放入含有其离子的溶液中，如果溶液中离子浓度为1g/L，则该物质与标准氢电极之间的电位差就是标准电极电位。标准电极电位的负值越大，则金属越活泼；
若正值越大，则金属越不活泼。

在25℃时，几种金属的标准电极电位如下表所示

由上表可知，W和Cu的电极电位差为0.54V，在高温、高湿环境下，容易产生电化腐蚀。而W与Ni的电化腐蚀现象较W与Cu、W与Ag的轻微，因为W与Ni的电极电位差只有0.03V，不容易发生电化学腐蚀。所以，可以往钨触点中添加适量的Ni，以提高它的抗氧化能力，即降低其表面膜的形成的可能性。



 

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影响钨触点腐蚀的腐蚀速度主要因素有：空气中的杂质、湿度和金属表面的状态。如果空气中湿度越大，金属表面上凝结的水膜会越厚，则水膜的电阻越小，腐蚀速度也越快。

钨触点腐蚀过程的化学反应式如下所示
W + O₂ = W - 4e + O₂ = WO₂
2WO₂ + H₂O – e = W₂O₅ + 2H
W₂O₅ + H₂O - e = 2WO₃ + 2H
WO₃ + H₂O = H₂WO₄（黑色胶状物）
H₂WO₄ – H₂O = WO₃（脱水→黄褐色硬膜）
从上述式子可以看出，电化学腐蚀的本质是，金属原子失去电子被氧化的过程。
电化学腐蚀是金属和电解液之间发生电化学反应使得金属被破坏的过程。
金属发生电化学腐蚀的条件：
1.金属间有电位差
2.在电解液中进行等

钨触点在潮湿中会受到腐蚀（通常情况下，发生在空气湿度大于60％时），称为大气腐蚀，是电化学腐蚀的一种。大气腐蚀的发生是在金属上一层电解薄膜（溶有各种盐类和腐蚀性气体杂质）内进行的，该层膜的形成是因为大气中水汽凝聚或吸附在金属表面上。

 

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钨触点表面上的膜的出现是因为：在使用过程中，尤其是已经将其放置在高温、高湿条件下很长时间后再使用时，其表面生成一层黄褐色的氧化物膜，经过化学分析其成分，该层硬膜为WO₃（不导电），这层硬膜的电阻很高，会导致触点接触不良或不能导通，从而使得设备出现故障。

金属在被氧化或腐蚀后，倘若金属的体积小于氧化物的体积，则金属表面可能会形成致密的、完整的氧化物-膜；倘若金属的体积大于氧化物的体积时，则金属表面形成的氧化膜是疏松的、多孔的不完整的膜。
关系表达式如下：

V_OX=M_OX/D_OX
V=X*M_w/D_w
则：
V_OX / V= M_OX* D_w/ D_OX* X*M_w＜1时，氧化物膜是不完整的；
V_OX / V= M_OX* D_w/ D_OX* X*M_w＞1时，金属氧化物膜可能是完整的、致密的；
由相关文献可知，WO₃的V_OX / V 的值为3.59＞1，所以，钨触点表面上的膜是致密的、完整的。排故方法：滴几滴酒精在钨触点表面上，则该层硬膜会剥落。
其中，
V_OX表示氧化物的体积
M_OX表示氧化物的分子量
D_OX表示氧化物的密度
V表示生成单氧化物分子的金属体积
X 表示在单氧化物分子中金属原子的数量
M_w表示金属的原子量
D_w表示金属的密度



 

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