硫化鎘-三氧化鎢複合光催化劑

硒化鎘納米晶是半導體納米晶中研究最廣泛，應用前景最好的一類II-VI族半導體納米晶，由於其具有重要的非線性光學性質，發光性質及其他物理化學特性而備受世人的矚目。

作為一種非常重要的半導體材料，已經在各種發光裝置，鐳射與紅外探測器件，紅外視窗與非線性光學材料和光敏感測器等領域展示了廣闊的應用前景。特別是硒化鎘能很好地吸收可見光，因而它是光化學催化劑的首選材料。

硒化鎘是禁帶寬度為1.7eV的直接帶隙半導體材料，具有立方閃鋅礦和六方纖鋅礦兩種晶體結構，其中立方相結構為亞穩態，只能存在於較低溫度，高溫時轉變為六方相結構。不過，硒化鎘極易光腐蝕，光穩定性差，這就需要一種帶隙較窄的材料去提升它的性能。

而三氧化鎢就是這種材料，例如，有學者提出了一種硫化鎘-三氧化鎢複合光催化劑的製備方法，可以克服鎢酸鎘性能的不足。這種材料的合成方法如下：

(1)、三氧化鎢的製備

稱取硼化鎢粉體150mg，將其放入裝有8mL的2M氫氟酸水、乙醇混合溶液的(水、乙醇體積比為3∶4)、以聚四氟乙烯為內襯的不銹鋼反應釜中。反應釜密封後，放入烘箱在190℃加熱處理36h，取出反應樣品，用去離子水清洗並在80℃烘乾，得到氫鎢青銅晶體，再700 ℃空氣中熱處理2h得到三氧化鎢；

(2)、將氯化鎘和3-巰基丙酸按照1:1.65摩爾比溶解在去離子水中，形成混合溶液，然後在混合溶液加入三氧化鎢，通氮氣除氧30分鐘後，繼續加入硫代硫酸鈉，混合均勻後用1mol/L的氫氧化鈉溶液調節pH至9，並在200℃反應1.5小時；

(3)、離心、洗滌並烘乾獲得硫化鎘-三氧化鎢複合光催化劑。

所獲得的硫化鎘-三氧化鎢複合光催化劑具有較高的光催化活性和穩定性，將上述所制得的成品用於環丙沙星廢水的光催化劑降解測試，最終計算出其綜合降解率達到88％以上。

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