超聲空化法因其獨特的物理效應和化學效應在製備納米三氧化鎢能收穫很好的效果。因為在超聲空化作用下產生的高溫和在固體顆粒表面產生的大量氣泡都大大降低了晶核的比表面,從而抑制了晶核的聚結和長大。另外,超聲空化作用產生的衝擊波和微射流的粉碎作用使得凝膠沉澱以均勻的微小顆粒存在。利用超聲空化技術,通過空化時產生的局部高溫、高壓或強衝擊波和微射流等作用,可以較大幅度地減少納米粒子間的結合力,從而有效地阻止團聚現象的產生,有利於製備了具有微孔結構高比表面積、高結晶度的納米三氧化鎢。製備方法是：勻速把配置好的鎢酸鈉溶液加入陽離子樹脂交換柱中，交換後的鎢酸溶液放入燒杯，冷卻後會形成凝膠。放置1~2天后，加入蒸餾水超聲分散凝膠20min，在8000r/min下離心分離1h得到沉澱物。然後在重複上述過程1、4、7、10次後在室溫下分別進行真空乾燥或100℃乾燥,可得含少量結晶水的不同納米級微孔三氧化鎢樣品。

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在低溫條件下，將某些金屬（如鈀，鎳，鐵等其他金屬）附在焊絲表面，將發生重結晶。這是一個重要的過程，因為它可能會嚴重惡化的抗下垂鎢絲的機械性能，被誘導時電線作為在金屬基複合材料的增強材料。

透射電子顯微鏡觀察表明，大約為0.18mm摻雜鎢絲的再結晶的初始階段形成，通過位錯的重排，新晶粒的相對取向差可以發揮在再結晶過程中的關鍵作用。鉀的阻礙作用的氣泡兩者上錯位重排和界遷移導致重繪製摻雜鎢絲的異常再結晶行為。此外，人們發現，重結晶鎢晶粒的非<110>取向可能起源無論是從穀物用非<110>取向在原料或來自新核粒。這些意見可以解釋鎢絲其目前的理論無法解釋的再結晶特徵。

 

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三氧化鎢薄膜能夠通過適當能量的光輻照（光致變色）或者利用電場（電致變色）而呈現顏色，這種性質使得它在電致變色窗、大面積資訊顯示幕和汽車反光鏡等方面有被廣泛運用。人們在製備WO₃薄膜上研究出了許多的方法，包括物理沉積法和化學沉積法，但是這些方法製作成本高且難以形成大面積薄膜。但是電沉積方法在製備WO₃薄膜方面不僅僅經濟優惠且易於製作大面積薄膜，最重要的的是製備出來的WO₃薄膜的光致變色及電致變色的特性良好。薄膜備置方法：Pt片作為陽極，英石導電玻璃最為陰極。陰極電沉積在溫室下，與溶度為0.5mol/L 的NA₂WO₄溶液進行反應，恒定電流密度為2.00A/cm2,制得的WO₃薄膜首先在紅燈下烤幹，然後在400℃下熱處理3小時，經熱處理後的薄膜較均勻，粘附性好，在X射線衍射結果顯示，該WO₃薄膜為無定型結晶膜。

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抗下垂鎢絲也被稱為摻雜鎢絲，根據所摻雜釷含量不同分為不同的類型（例如，W61，W91，WR15，HW31，HW41,HW42，HW61，HW99，WAl1，WAl2等），具有各自的特性及應用。

抗下垂鎢絲的應用：

由於抗震性能良好，抗下垂鎢絲被廣泛用於製造汽車燈和摩托車燈，從而為駕駛員提供穩定的光源。

 

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抗下垂鎢絲，也叫摻雜鎢絲，被廣泛運用於照明行業。

獲得必要的抗蠕變性，大的長柱狀晶粒被認為是理想的金相組織，這些大顆粒是由初級和次級再結晶獲得。在二次再結晶，通常被稱為異常晶粒生長，一些晶粒將大規模生長。正常和異常晶粒的生長機制基本上是相同的，涉及大角度晶界遷移和通過表面能量的降低驅動。異常晶粒生長可以被可視為對少數顆粒的生長有優勢而對大多數顆粒或生長不利。這樣的優點/缺點可通過（1）顆粒尺寸的差異造成的和/或（2）晶界特徵分佈（GBCD）的差異。換句話說，晶粒可以大規模如果它有大的尺寸和/或更有利的（即，較高遷移率）的晶界與基體晶粒的可能性。

 

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由於鎢粉和碳化鎢粉的化學純度和物理性能要求嚴格使得制取鎢粉和碳化鎢粉的工藝很複雜，成本也較高。但是多數情況下鎢粉在不是嚴格要求成分的時候其中存在許多雜質，用工業純碳還原制取鎢粉是一種經濟且簡便的方法。且在真空爐內用碳還原三氧化鎢是可直接制取純度較高的鎢粉和碳化鎢粉提供熔煉鑄造碳化鎢用，根據現在的科學技術，用工業純碳或者是碳化鎢粉作為鑄造碳化物的物料是完全可以滿足要求的。用碳還原三氧化鎢的原理與氫還原三氧化鎢的原理是類似的。在常壓下，溫度在750℃條件下加熱三氧化鎢使它與碳黑或者石墨粉的混合物發生還原反應。反應化學方程式是：WO3+3C=W+3CO, WO3+4C=WC+3CO。在1000℃以下，主要由CO參加還原反應，反應化學方程式是：WO3+3CO=W+3CO2，CO2+C=2CO。其中的主要流程包括原料和碳球磨混合、壓力成型、在200℃條件下乾燥，然後真空還原碳化，再經過球磨過濾。

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濺射法是一種物理氣相沉積的一種。它是通過荷能粒子衝擊固體表面，使固體原子從表面射出，並沉積到基片或工件表面形成薄膜的方法。濺射法又分為直流濺射、射屏濺射、磁控濺射、離子束濺射等等。其中磁控濺射技術是一種沉積速度較快、工作壓力較低的濺射技術，因其獨特的特性而被廣泛應用。運用該方法製備的三氧化鎢薄膜厚度從幾十個納米到幾百個納米不等。用磁控濺射法製備三氧化鎢薄膜的主要控制的條件有：首先是鎢靶由純度為99.9%的鎢粉壓制而成, 其次襯底為透明平面玻璃(25mm),然後工作氣體是氬氣(>99.99%),活性氣體是氧氣(>99.99%),氧氣和氬氣的氣壓比為75%。最後設置工作壓強是1.5Pa,濺射電流為0.12A,濺射電壓為520V,靶距為7cm,濺射時間為45min。

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抗下垂鎢絲（抗下垂是指對在其自身重量變形（“下垂”）的電線的電阻在工作溫度）摻雜矽，氧化鋁，氧化鉀鎢絲，它被廣泛應用於電子器件和熱燈絲燈泡的燈絲，如高燈絲色溫，耐熱衝擊性絲，如陰極管輻射。

 為了使鎢燈絲清晰的抗下垂性的再結晶行為進行了研究用顯微鏡檢查和X射線衍射的裝置。長絲具有凹陷性開始於一個優選的取向有關初始纖維方向在溫度大約1000℃的再結晶。這個方向是在約1300℃被破壞，從而導致普通非優先多邊形結構。在隨後的晶粒生長，即使在相當高的溫度下很慢。與此相反，與抗下垂電線此取向的再結晶被維持達2000~2100℃，隨後突然粗化，其中，所述粗大的結晶侵佔直接在剩餘的纖維結構體。因此，粗大的結晶往往佔據的線的整個橫截面，並且燈絲變為最後以形成連續的鏈組成的單晶。這種現象被解釋為抑制因粗貝克等人在1949年宣導的鎢絲這種抑制作用很可能是由於摻雜材料的微量造成的。

 

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三氧化鎢（WO₃）因其獨特的性質在工業與科技各個方面有著廣泛的應用。且WO₃的形貌和結構與應用功能有著直接的關係，目前，人們已經可以用多種方法製備不同孔徑的多孔氧化物，其中包括大孔、介孔和微孔的。但是泡沫結構的多孔材料由於易碎所以對其的研究和應用較少。

經過專家試驗，以製備出具有支撐力的三氧化鎢多維網結構。製備三氧化鎢多維網結構的典型合成方法如下：
（1）將1g金屬鎢粉溶解在15ml30%H2O2和15ml甲醇的混合液中形成透明溶液，在此過程中要不斷的攪拌。
（2）將0.12g聚乙烯呲咯烷酮加入上個步驟中的透明溶液形成略微粘稠的透明溶液。
（3）將溶液在333K下濃縮，當溶液被濃縮到5ml的時候，泡沫狀結構變開始形成。
（4）將形成的泡沫在773K下煆燒6小時，升溫速度控制在1K/min。  

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嚴格滿足化學計量比的三氧化鎢的晶體結構應使畸變的鈣鈦礦結構，即在ABO3型式的鈣鈦礦結構中出現A陽離子的缺位。氧原子構成正八面體，一個鎢原子位於這個正八面體的中央。所有單一晶相的三氧化鎢都可以看成八面體結構只是在一定結構上發生了結構的扭曲。由於三氧化鎢存在不同程度的氧缺位元，其化學計量也因此變得比較複雜，所以三氧化鎢的化學式通常寫為WO3-X的型式。隨著氧空位數量的增加，它們在WO3-X晶體內的分佈也變得有序起來，型成所謂的切邊面。X＜0.02時這些切變面是無規則分佈的。X≥0.02後切變面則呈現相互平行排列的趨勢，隨著還原程度的不斷增加，切邊面排列的有序程度也不斷增加。這些具有不同晶體結構和空位的化合物，使得三氧化鎢具有了多種性能，其具有的光催化活性也不一樣。

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