為了履行旨在保護地球臭氧層的蒙特利爾協議，世界各國已經推出零ODP值的氫氟烴(HFCs)和氫氟烯烴(HFOs)，從而淘汰ODP值不為零的氯氟烴(CFCs)和氫氟氯烴 (HCFCs)。目前，HFCs和HFOs已經廣泛用作製冷劑、清洗劑、發泡劑、滅火劑、刻蝕劑等。

TFT薄膜具有高回應度、高亮度、高對比的優點，是眾多行業基本材料之一，因此被廣泛應用於太陽能電池、液晶顯示器和等離子顯示器領域，近年來，伴隨著高檔顯示器的快速發展，鎢鉬合金旋轉靶材成為製備TFT薄膜的重要材料。

碳化鎢(WC)是生產 硬質合金的重要原料。碳化鎢的製備技術多種多樣，其中以鎢粉為原料製備碳化鎢粉是目前應用最為廣泛的方法。

物理氣相沉積（PVD，PhysicalVaporDeposition）被廣泛地應用在光學、 電子、資訊等高端產業中，例如：積體電路、液晶顯示器（LCD，LiquidCrystal Display）、工業玻璃、照相機鏡頭、資訊存儲、船舶、化工等。PVD中使用的合金靶材則是積體電路、液晶顯示器等製造過程中最重要的原材料之一。