單晶氧化鋅膜的光學特性順利化學氣相沉積在藍寶石上

詳細內容: 分類：藍寶石長晶爐-鎢制品新聞; 發佈於：2013-12-16, 週一 11:51; 點擊數：782

氧化鋅的Br2-O2 ，氯化鋅-02 ，和ZnO-H2-H2O-O2化學氣相沉積（CVD）系統的研究，以獲得對藍寶石單晶氧化鋅作為生長的光波導。該波導是由氧化鋅的藍寶石上的非常薄的濺射沉積的外延層通過使用在ZnO-H2-H2O-O2等溫化學氣相沉積系統。在垂直於氧化鋅薄膜的c軸方向獲得的TE0模式傳播損耗最小為0.7分貝/釐米。氧化鋅對薄濺射的氧化鋅膜此化學氣相沉積給出了帶狀光波導的藍寶石的製造方法，由於在濺射沉積的ZnO片的氧化鋅薄膜的選擇性生長。

化學氣相藍寶石上（SOS）的低溫沉積矽0.25 μm厚植入28Si +和通過爐內退火（FA），並在我們的實驗室紅外快速熱退火（RTA）進行重結晶在固相上。可以同時使用退火方法得到的結晶品質的改善。 FA之後，就很難保持固有的高電阻率值（ Ω 104-105釐米）中觀察到的生長的SOS膜，所以改進的過程，不能投入實際使用有效。然而，可以證明，通過適當地調節注入和RTA的條件下，在兩種膜品質和膜自動攙雜顯著改善可以完成。這項工作介紹了改性雙固相外延，其中作為土生土長的SOS薄膜的內在高電阻率被保留的過程。抑制鋁自摻雜的機理進行了討論。