光誘導金屬有機物分解過程：一個新穎的技術介電薄膜生長

一種新穎的光誘導金屬有機分解（PIMOD）工藝已發展為生長在矽或藍寶石襯底的高品質的鈮酸鋰的膜裂紋，並在較短的處理時間的溫度低於所要求的常規的MOD法的相互擴散的無膜已生長的PIMOD過程。被報告的PIMOD衍生薄膜的電學，光學和電光學特性。

單晶層已經上外延生長用金屬鋅和硒配方和藍寶石襯底。噴嘴的硒流被放置在所述基板的前約1釐米，並且這種安排導致少得多的硒消耗比當噴嘴從基板被進一步分離的情況。外延條件進行了調查作為源和襯底溫度的函數。當基片溫度和源溫度的一個是固定的，生長速率的增加而其他源的溫度，然後用飽和。低於飽和點時，生長速率正比於流速和每個源材料的蒸氣壓。依賴於生長速率襯底溫度顯示為下方770℃表面控制的現象，是品質傳遞控制的現象，上述770 ℃下1上式襯底上外延生長發生在650 ° -880 ℃，生長速率範圍從1到30微米/小時的基板溫度範圍。在作為生長層的電阻率太高（ 106 Ω·cm的）被用於LED應用是有用的。


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