鍍鋁用鎢加熱子——真空條件

真空蒸發用鎢加熱子就是在真空中把蒸發物質加熱到相當高的溫度，使其達到汽化狀態，這時蒸發物質以直線軌跡飛向襯底，並在襯底表面凝積成一層薄膜，這個過程就叫做蒸發澱積。為了確保蒸發物質能有效地沉積在螢光屏上，必須使蒸發物質的平均自由程大於蒸發源到襯底的距離。因此蒸發的過程必須在一定的蒸氣壓下進行。鋁具有有延展性，常製成棒狀、片狀、箔狀、粉狀、帶狀和絲狀。在潮濕空氣中能形成一層防止金屬腐蝕的氧化膜。

首先打開鍍膜機，將真空室的真空抽到高真空達5×10-5托以上，對蒸發物質進行預熔，然後再打開充氬。蒸發距離為6.5釐米，被蒸鍍物質的面積直徑為5.5釐米。可以在真空室內電極上面加上一個鐘罩和支撐板。這種小面積蒸發鍍膜的方法，每次只能鍍一個螢光屏。這種方法鍍出來的鋁的品質比較好，但是效率不高，一次只能鍍一個螢光屏，而且鍍膜的面積比較小，而且還不均勻。是由於蒸發鍍膜距離較低，螢光屏不能承受太高的溫度，所以只能快速蒸發。

直接在2×10-1托的真空條件下蒸發鍍黑鋁。蒸發材料為5條鋁，每條長0.8釐米，鎢絞絲加熱子總長8.5釐米，直徑0.5毫米，當蒸發鍍膜室的真空達到2×10-1E的時候，先將鋁絲進行預熔，然後再向真空室放入空氣，將真空度調到2×10-1E。在這樣的真空條件下進行蒸發鍍膜。

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