退火溫度影響三氧化鎢薄膜氫敏性能

詳細內容: 分類：鎢的知識; 發佈於：2016-02-18, 週四 15:10; 作者 qiongyao; 點擊數：264

退火溫度（Annealing Temperature）為引物和範本結合時候的溫度參數，當50%的引物和互補序列表現為雙鏈DNA分子時的溫度，它是影響PCR特異性的較重要因素。在理想狀態下，退火溫度足夠低，以保證引物同目的序列有效退火，同時還要足夠高，以減少非特異性結合。合理的退火溫度從55℃到70℃。退火溫度一般設定比引物的 Tm低5℃。在範本變性後溫度快速冷卻至40℃～60℃(某個退火溫度)的時候，可使引物和範本發生結合。由於範本DNA比引物複雜得多，引物和範本之間的碰撞結合機會遠遠高於範本互補鏈之間的碰撞，這就使PCR後期的過程成為可能。

表1-1 退火溫度對三氧化鎢薄膜氫敏性能的影響：

退火溫度（℃）	100	200	300	400	500
對0.2%H2的敏感性	40.3%	35.0%	12.7%	5.3%	1.2%

從以上表格資料可以看出，退火溫度越高，薄膜氫敏感性越差。當溫度達到高溫（＞400℃），薄膜由無色透明變成藍色，對氫氣幾乎沒有回應。這可能是因為退火溫度越高，三氧化鎢薄膜結構越緻密，對氫氣的吸附越困難；當退火溫度＞400℃後，薄膜物質由非晶態變成結晶態，結構的變化導致薄膜的顏色變深，因此氫敏性能較差。

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