熱蒸發法製備氧化鎢納米線

熱蒸發法是一種氣相沉積法，它具有高效率的特點。採用熱蒸發法製備氧化鎢納米線的具體過程是首先將熱蒸發的本底真空度設為10^-1Pa，工作強壓設為10Pa，蒸發時間為15min。

再將鎢粉放入爐子中的鎢丹上，將矽片水準放置與鎢丹的附近。然後通入惰性氣體進行吹掃氬氣，掃除的流量設為70sccm。最後加熱鎢丹，鎢粉受熱氧化成氧化鎢，在矽片上沉積並長出納米線，蒸發的溫度分別設置為975℃、1000℃、1025℃、1050℃，矽片溫度保持在550。經過專家研究發現，氧化鎢納米線的生長存在一定的規律，隨著蒸發溫度的升高，矽片表面的蒸氣濃度也會變大，過飽和度升高，形核數增加，氧化鎢納米線的直徑增加，高度則先增後減，溫度過高時晶向取向性降低。而矽片溫度的升高，矽片上的氧化鎢蒸氣分子的活性變大，氧化鎢納米線的結晶速度加快，高度也增加了。可見要製備不同形貌的氧化物納米線可以通過控制蒸發源和矽片溫度。

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