鎢靶材在薄膜材料的應用

鎢靶也叫鎢濺射靶材，其熔點高、彈性好、膨脹係數低、電阻率和熱穩定性良好，廣泛應用於電子產業（例如LED和LCD）、化工設備（X-射線管、薄膜材料、半導體積體電路、二維顯示器、太陽能光伏和表面工程）、醫療設備、熔煉設備、稀土冶煉、航空等領域。
現在一種新方法---PVD（物理氣相沉積法）已經被用來濺射薄膜材料，用這種方法做出來的產品特點是具有高密度、表面平滑、無分層、無重皮、無裂紋、無雜質並且具有良好的粘合性等優點。隨著高純金屬和合金需求的增長，磁控濺射技術被廣泛應用。它可以和兩個較舊濺射圖謀以及最新的處理設備一起工作，例如，為太陽能或燃料電池和倒裝晶片的應用大面積塗層。

 

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