納米結構氧化鎢的合成

氣相沉積的範疇很廣，通常指的是源材料氣相條件下聚集到靶材基材上。生產氧化鎢，通常用物理氣相沉積法（PVD）。PVD法可以直接用氧化鎢作為鎢源，用高能蒸發昇華的方法進行沉積，比如離子轟擊，加熱，離子束，激光輻射等等。通過參數的控制，可以實現納米尺寸的晶體，形貌的形成，鎢源並不一定氧化鎢，也可以是粉末或者細絲狀的鎢單質，另外一定要引入氧氣或其他的氧化劑來形成WO3的氣相。很多時候，PVD法生成的是WOx而不是WO3，沉積物的顏色通常就可以推算出其化學計量比，通常黑色薄膜得形成都意味著形成的WOx材料中氧原子的缺失；半透明的暗藍色的薄膜則是形成了WOx（x=2.7）；黃綠色則是說明形成的是WOx。通常情況下，通過熱處理可以控制生成物中氧的含量，晶相組成和化學計量比。氣相合成常用的有濺射法，氣相蒸發法以及其他的一些PVD法。

濺射法就是用高能粒子轟擊靶材產生原子生長薄膜的方法，其優點是可控性好，生長出來的晶體薄膜具有很好的結構可控性。濺射法比較容易操控，可以在大規模生產中實現滾動式生產，因此，在工業生產氧化鎢方面，濺射法有很廣泛的應用。

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