製備氧化鎢薄膜-物理氣相沉積法

製備氧化鎢薄膜-物理氣相沉積法，是將原料加熱至高溫，使之氣化，接著在較大溫度梯度條件下急冷，在基片上凝聚成氧化鎢薄膜的方法，其本質是系統中不發生化學變化的蒸發-凝聚法。

首先把純度為99.9%的氧化物分末置於石英管中央，把石英管放在水準管式爐中加熱，控制石英管中的溫度梯度、壓強和蒸鍍時間可制得高純的氧化鎢，接著將高純的氧化鎢製成直徑為10mm高6-10mm的圓柱靶材，隨後在空氣中加熱至700℃保溫8h。雷射器功率為60KV，電流為20mA，產生波長為1064nm的鐳射以5HZ的頻率每次持續12ns的時間，照射在12rpm的速度旋轉靶上9000次。氣相沉積艙的壓強保持在13.3pa，基片溫度為200℃，沉積得到的氧化鎢薄膜厚度約為870-980nm。
 

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