鎢鈦合金薄膜光刻工藝

鎢鈦合金薄膜是由鎢元素和鈦元素組成的材料，具有良好的導電性和耐腐蝕性，可用作超大規模集成電路薄膜工藝中的濺射靶。

一種鎢鈦合金薄膜光刻工藝的步驟如下： 

一、將覆蓋有合金薄膜的矽片襯底基片（簡稱“基片”）使用丙酮，异丙醇與去離子水清洗，吹幹。

二、使用勻膠機將液態正光刻膠旋塗在待刻蝕的基片上，通過調節勻膠機轉速以控制光刻膠達到特定厚度；將塗膠完成的基片在熱板上加熱固化膠層，待膠充分冷却後在對準曝光機上使用掩膜進行紫外綫曝光；然後將曝光後的基片在顯影液中完全顯影，將顯影後的基片在熱板上加熱，使膠層完全固化；勻膠與曝光過程在黃光區完成。 

三、將熱固化膠層的基片在有空氣循環過濾設備的通風橱中冷却，確保膠層中的溶劑充分揮發，冷却過程在黃光區完成。 

四、通過溫度控制，將30%雙氧水刻蝕液溫度維持在20℃，將冷却完成的基片放入刻蝕液開始刻蝕；在20℃下雙氧水對光刻膠膜的刻蝕作用被大大减緩，根據實驗可知其刻蝕時間遠大于鎢鈦合金薄膜需要的刻蝕時間。因此該反應可以在不破壞光刻膠賦形層的前提下實現合金薄膜的高精度刻蝕，而僅需要一步光刻。

五、將刻蝕完成的基片使用丙酮與异丙醇洗掉光刻膠，完成工藝。

該生産工藝實現高精度的合金薄膜光刻，提高産品的適用範圍，消除了傳統合金光刻中的鋁賦形層引入的精度誤差與工藝複雜性，改善了光刻精度與可靠性。

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