濺射法製備W18O49納米棒

作為一種非化學計量比的氧化鎢（WO3-x），W₁₈O₄₉的製備研究仍處於探索階段。目前，國內外對於製備W₁₈O₄₉的研究大多集中在W₁₈O₄₉納米線和納米棒粒子材料的製備方法上。其中，濺射法是製備W₁₈O₄₉納米棒的一種可行方法。

濺射法主要是利用直流或高頻電場產生的巨大能量電離惰性氣體，被電離的高能惰性氣體獲得能量後通過撞擊過程，與靶材表面的原子或分子發生能量交換，將能量傳遞給表面的原子或分子進而發生濺射，最終在襯底上沉積成薄膜。

W₁₈O₄₉納米棒通過濺射法成功製備得到，具體過程如下：

1.以石英反應器玻璃板作支撐襯底，W₁₈O₄₉納米棒是生長在該襯底上的；

2.在大氣壓力下，將鎢薄膜樣品在氮氣氣氛中加熱至700℃；

3.將乙烯引入到反應器內，反應20分鐘，並使用線上色譜監測儀分析檢測輸出氣體的成分；

4.將樣品在氮氣氣氛下冷卻至室溫，從而成功制得W₁₈O₄₉納米棒。

製備所得W₁₈O₄₉納米棒直徑為15-20 nm，平均長度為50-250 nm。納米棒在鎢薄膜上均勻生長，且產量很高。不僅如此，製備過程還發現納米棒可於薄膜兩側同時生長。採用高分辨透射電子顯微術來確定納米棒化學結構和相組成，HRTEM圖像顯示沿著納米棒長邊的晶面間距為0.378 nm。

濺射法是製備W₁₈O₄₉納米棒的一種可行方法，其具備沉積速度快、工藝重複性好及產物與襯底結合好、純度高等多種優點。

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