氧缺陷型氧化鎢催化性能

氧缺陷型氧化鎢作為一種新型材料，它有著比普通氧化鎢更為優良的性能優勢。其催化性能的測定，主要使用甲基橙法來確定氧缺陷型氧化鎢的結構特點。

氧化鎢本身具有負電性，對亞甲基藍這些陽離子染料分子具有強吸附性，但是並不吸附甲基橙中性染料分子。在測試氧缺陷型氧化鎢材料的光催化材料時，需要排除材料對染料的吸附性。因此在測試氧缺陷型氧化鎢的催化性能時，使用了甲基橙溶液。可見463 nm 處對應於甲基橙中的偶氮顯色基團。在463nm的峰強度逐漸下降，證明甲基橙的偶氮基團正在斷裂。

在550 nm-780 nm可見光下的降解率明顯大於暗場下的降解率，可推測光催化效率較高，在暗環境中濃度也有所下降，但是主要作用的是光催化反應。為了進一步瞭解苯環在波長大於550nm的光線照射下是否裂解，分別取0.5 ml降解了0 分鐘 和  180 分鐘的甲基橙溶液烘乾，用顯微紅外吸收光譜儀進行表徵。在甲基橙染料在波長大於550 nm的光線照射時降解0 分鐘和180分鐘時的吸收光譜圖中，1632、1530、1425分別是水、甲基的吸收峰。可見0分鐘時1607處苯環所對應的C=C吸收峰、1367處的N=N吸收峰在降解180分鐘後消失，而1425處的C-N吸收峰出現，可以推測甲基橙中的苯環確實被裂解。半導體對光的吸收範圍取決於半導體的禁帶寬度和能帶結構。

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