氧化鎢薄膜磁控濺射法

磁控濺射法是製備氧化鎢磁性薄膜的一種常用方法。磁控濺射法製備氧化鎢薄膜的原理是：當氬離子被陰極加速並轟擊陰極靶表面時，將氧化鎢靶材的表面原子濺射出來後，氧化鎢表面原子會沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質的氧化鎢靶材以及控制不同的濺射時間，便可以獲得不同材質和不同厚度的氧化鎢薄膜。採用磁控濺射法製備的氧化鎢薄膜具有鍍膜層與氧化鎢的結合力強、鍍膜層緻密、均勻等優點。

採用磁控濺射法製備氧化鎢薄膜材料過程中，能夠通過調整濺射工藝參數，進而優化氧化鎢膜層表面及內部微觀結構。從而能夠製備出電致變色性能優異的氧化鎢薄膜。而採用磁控濺射法製備的氧化鎢薄膜表面為峰狀結構，有利於提高氧化鎢薄膜的物質活性。而通過調整磁控濺射法流程中的工作壓強，則可以改變氧化鎢薄膜的膜內疏鬆程度和表面粗糙度。能夠使氧化鎢薄膜具有更有優異的形貌特徵。

當氧化鎢薄膜膜層微觀結構越疏鬆時，其著色、褪色的速率也就越快。但是隨著疏鬆程度的增加，氧化鎢薄膜膜層與基板的附著力會逐漸減小。而但氧化鎢薄膜膜層疏鬆程度過大時，其膜層便極易脫落。從而使氧化鎢薄膜迴圈壽命減短。

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