FTO透明導電玻璃用摻鈦氧化鎢薄膜

有專家在不同氧氣分壓條件下，採用脈衝直流反應磁控濺射法在FTO透明導電玻璃基底上製備了摻鈦氧化鎢薄膜。他們發現：

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氧氣分壓較低時，所製備的薄膜為欠氧狀態的三斜晶系，增加氧氣轉變為立方晶系結構。隨著氧氣分壓增大，薄膜結晶程度增加，薄膜表面顆粒由片狀逐漸凸起，顆粒尺寸減小，表面粗糙度減小，薄膜緻密性增加；同時薄膜由淡藍色變為淡黃色，透過率增加，光學帶隙逐漸減小。薄膜電致變色迴圈穩定性隨著氧分壓增加，先增大後減小， 550nm處光學調製幅度為62.0%，薄膜經過200次迴圈後光學調製幅度和CV曲線未見明顯變化，表現出好的電致變色幅度和迴圈穩定性。同時，增大氧氣分壓，薄膜著色、褪色回應時間變短，薄膜變色速率增加。因此，反應磁控濺射製備氧化鎢電致變色薄膜工藝中，增加氧分壓，可以使薄膜結晶度增強，結構更加穩定，有利於迴圈穩定性，但是過高氧氣分壓導致薄膜過於緻密，鋰離子殘留薄膜中難以抽出，不能完全褪色。

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