鉭摻雜氧化鎢電致變色薄膜

有專家對鉭摻雜氧化鎢電致變色薄膜的表面形貌進行觀察，發現其SEM圖如下圖所示，其中，（a）、（b）、（c）、（d）、（e）、（f）、（g）分別為未摻雜Ta、摻雜5%Ta、摻雜10%Ta、摻雜15%Ta、摻雜25%Ta以及摻雜35%Ta的WO3薄膜。

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由圖（a）可以看出，未摻雜的氧化鎢薄膜是由細小的納米顆粒組成的多孔材料，薄膜表面均勻平整，但是有細小的裂紋。當Ta摻雜量為5%-10%時，薄膜表面仍然較為平整，且裂紋逐漸減少，如圖（b）和圖（c）所示。當摻雜量達到15%-25%時，薄膜表面不再平整，形成一些凸起的納米團簇顆粒，如圖（c）和圖（d）所示，能譜儀結果顯示這些凸起的納米顆粒的組成成分與薄膜其他部位的組成成分相同。當摻雜量進一步增加到35%時，薄膜表面零星地分佈著一些微米級別的顆粒，如圖（f）所示。這些顆粒放大後的表面形貌如插圖（g）所示，能譜結果顯示這些顆粒的組分與薄膜其他部位的組成並無差別，但是緻密度更高，顯然這種結構不利於離子在薄膜中的傳輸。

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