摻雜WO3薄膜

摻雜WO3薄膜可以採用電子束蒸鍍法製備得到。其中，電子束蒸鍍法是蒸發鍍膜法中的一種，而後者又屬於物理氣相沉積法中的一種。有專家以WO3和CNT的混合粉末為原料，採用電子束蒸鍍法在Al2O3基板上制得NWCNT摻雜WO3薄膜。

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專家表示，物理氣相沉積是實驗室中較為廣泛採用的制膜方法，與其他方法相比，其合成薄膜的速度較快，薄膜純度較高，表面均勻性較好，且可將一些高熔點反應物用於摻雜WO3薄膜的製備，但反應儀器成本較高，因而不適用於規模化製備薄膜材料。專家還講到，電子束蒸鍍的原理是利用高能電子束對靶材表面進行轟擊，使材料表面產生極高的溫度，從而使材料由固態直接昇華到氣態，並沉積到工件表面形成薄膜。

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