Ni摻雜氧化鎢

Ni摻雜氧化鎢可以採用磁控濺射法製備得到，所得粉末可以用於製備WO3薄膜。有專家以磁控濺射法製備Ni摻雜WO3，研究結果表明：

摻雜Ni後，WO3的可見光透過率降低而著色性能提高，且在低濃度摻雜時效果更明顯，而在高濃度摻雜時效果降低；最佳Ni摻雜量在7.8%左右。

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專家表示，Ni摻雜可適當地降低WO3的極化電壓，並提高WO3薄膜的穩定性和著色性能。Ni一般以雜質原子的形式進入WO3晶格中，在WO3中有一定的固溶度，形成置換固溶體，從而改變WO3的晶格結構及其性能。

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