二硫化鎢是一種頗具前途的電催化劑，它的層狀結構具有可調節的電氣特性及裸露的邊緣可作為活性中心。它主要被用作氫氣進化反應的電催化劑。WS2的表面是惰性的；然而，WS2的催化活性發生在片狀邊緣，這決定了整體催化性能。為了提高WS2的催化效果，電解質必須與WS2層完全接觸。

材料的內在屬性，如形態、晶體結構和比表面積決定了材料的光催化效率。由於獨特的帶隙特性、固有的空位缺陷和低導電性，WS₂薄膜可被用作電和光催化劑，它們已經被廣泛用於環境保護和清潔能源的產生。在納米尺度上，較高的比表面積提供了更多的活性中心，促進了光產生的電子-空穴對的電荷轉移。

作爲一種典型的鉬酸銨，四鉬酸銨又稱爲十三氧四鉬酸二銨，是由鉬、氧、氫和氮四種元素組成的一種白色或微黃色結晶粉末，是由銨根離子和多鉬酸根離子組成的一種鉬酸鹽，是鉬深加工産品的一種重要的化合物，純度高達99%，英文名爲Ammoinum Tetramolybdate，化學式爲(NH4)2Mo4O13，分子量628，CAS號爲12207-64-6。

與二硫化鎢（WS2）一樣，二硒化鎢（WSe2）也是一種典型的低維度過渡金屬硫族化合物半導體材料，是一種層狀結構的無機化合物，具有良好的物理、化學和電學等性能，廣泛應用于儲能電池、潤滑、半導體、光伏、航天、航空、軍事、國防等領域中。具體來說，WSe2的主要用途如下：

塊狀二硫化鎢可以通過物理和化學方法進行剝離，分為機械剝離法、液體剝離方法和鋰離子插層法。近年來，為了獲得大面積、高品質的單層WS₂薄膜，研究人員嘗試在錠晶襯底上生長單層WS₂薄膜，然後通過原子或分子插層法剝離。

用化學方法製備二硫化鎢（WS₂）薄膜的兩種常見方法是化學氣相沉積（CVD）和在高溫高壓條件下用水熱法從水溶液中生長單晶WS₂。CVD是用於製備WS₂的最常用方法。CVD方法涉及一個反應過程，其中氣態前體在固體表面發生化學反應，生成固體沉積物。

鎢鈷（WC-Co）硬質合金是可製造切削刀具和模具的一種由碳化鎢（WC）粉末和金屬鈷（Co）粉組成的合金材料，其硬度、强度與WC顆粒的大小密切相關，即在一定範圍內，WC晶粒越小，合金的硬度和强度越大。而WC粉末的粒度大小與其原材料氧化鎢的顆粒尺寸有關，即氧化鎢粒度越小，WC粉末越細。因此，爲了製造出納米WC-Co硬質合金，專利號爲CN103708560B的研究者提出了一種納米三氧化鎢的生産方法，具體步驟如下：

在過渡金屬二硫化物（TMDs）家族中，二硫化鎢（WS²）因其半導體特性而具有獨特的帶狀結構；即其寬頻光譜回應特性、超快的漂白恢復時間和出色的可飽和光吸收而受到越來越多的關注。

二硫化鎢（WS₂）原子結構包括由一個過渡金屬層（W原子）夾在兩個S原子層之間形成的疊層三層，每個S原子層都有一個六角形的晶格。在三層堆疊中，W原子和S原子通過強離子-共價鍵結合在一起。這三層形成的被弱的範德瓦爾斯相互作用固定在一起，這允許WS₂層的機械剝離。在體相中，多態性是TMD的獨特特徵。

作爲稀有金屬鉬的一種重要化合物，鉬酸是指由三氧化鉬（MoO3）和水按一定比例結合成的一種無色三斜或黃色單斜固體粉末，是由氫離子（H+）、氫氧根離子（OH-）和鉬酸根離子（(MoO4)2-）組合成的一種水合氧化鉬，英文名爲Molybdic Acid，分子式一般爲MoO3·2H2O，分子量179.97，CAS登錄號7782-91-4。